Enhanced magnetron sputtering deposition of NiO by gas flow modulation

Number of the records: 1

Title	Enhanced magnetron sputtering deposition of NiO by gas flow modulation
Author	Hotový I.
Co-authors	Huran Jozef 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID
	McPhail D.
	Rehacek V.

Source document	/ Mostaghimi J. . P. 570-571 ISPC 17 : proceedings of the17th International Symposium on Plasma Chemistry. - Toronto : Univ. of Toronto Press Inc., 2005
Language	eng - English
Country	CA - Canada
Document kind	rozpis článkov z periodík (rzb)
Category	AEE - Scientific papers in foreign non peer-reviewed proceedings, monographs
Category of document (from 2022)	O2 - Odborný výstup publikačnej činnosti ako časť knižnej publikácie alebo zborníka
Type of document	príspevok
Year	2005

article

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2005

Number of the records: 1