Number of the records: 1
E-beam lithography for photomask fabrication
Title E-beam lithography for photomask fabrication Author Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Co-authors Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Čaplovič Igor 1948 SAVINFO - Ústav informatiky SAV RID Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Source document / Scharff Peter Multicantilever parallel scanning systems : proceedings: PRONANO Workshop 2009. P. 71-78. - Ilmenau : Ilmenau University of Technology, 2009 ; Internationales Wissenschaftliches Kolloquium workshop PRONANO Language eng - English Country DE - Germany Document kind rozpis článkov z periodík (rzb) Category AEC - Scientific papers in foreign peer-reviewed proceedings, monographs Category of document (from 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Type of document príspevok Year 2009 
article
rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2009
Number of the records: 1