Number of the records: 1
Alignment marks for the EBDW lithography
Title Alignment marks for the EBDW lithography Author Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Co-authors Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Partel S. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Source document / Vajda J. ; Weiss M. APCOM 2010 : proceedings of the 16th International Conference on Applied Physics of Condensed matter. P. 252-255. - Bratislava : Slovenská technická univerzita v Bratislave, 2010 ; International Conference on Applied Physics of Condensed Matter APCOM 2010 Language eng - English Country SK - Slovak Republic Document kind rozpis článkov z periodík (rzb) Category AED - Scientific papers in domestic peer-reviewed proceedings, monographs Category of document (from 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Type of document príspevok Year 2010 
article
rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2010
Number of the records: 1