Number of the records: 1
Investigation of exposure parameters of e-beam resists for photomasks fabrication
Title Investigation of exposure parameters of e-beam resists for photomasks fabrication Author Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Co-authors Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Čaplovič Igor 1948 SAVINFO - Ústav informatiky SAV RID Source document / Sulzbach Thomas ; Rangelow I.W. PRONANO : proceedings of the Integrated Project on Massively Parallel Intelligent Cantilever Probe Platforms for Nanoscale Analysis and Synthesis. P. 99-110. - Münster : MV Wissenschaft, 2010 Language eng - English Country DE - Germany Document kind rozpis článkov z periodík (rzb) Category AEC - Scientific papers in foreign peer-reviewed proceedings, monographs Category of document (from 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Type of document príspevok Year 2010 
article
rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2010
Number of the records: 1