Electron beam-plasma vacuum deposition of very thin carbon films: photocathode application

Number of the records: 1

Title	Electron beam-plasma vacuum deposition of very thin carbon films: photocathode application
Author	Huran Jozef 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID
Co-authors	Skrypnik A.P.
	Dujnič Viera 1990- SAVCHEM - Chemický ústav SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
	Doroshkevich A.S.
	Zaťko Bohumír 1973 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID
	Nozdrin Mikhail A.
	Kováčová Eva 1966 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
	Shirkov G.D.

Source document	ASDAM 2022 : Conference Proceedings. P. 123-126. - : IEEE, 2022 / Marek Juraj ; Donoval D. ; Vavrinský E. ; International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems
Language	eng - English
Country	US - United States of America
Document kind	rozpis článkov z periodík (rzb)
Category	AFD - Published papers from domestic scientific conferences
Category of document (from 2022)	V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
Type of document	príspevok z podujatia
Year	2022

article

	File name	Access	Size	Downloaded	Type	License
	Electron beam-plasma vacuum deposition of very thin carbon films.pdf	Neprístupný/archív	763 KB	0	Publisher's version

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2022

Number of the records: 1