Number of the records: 1
Material optimization of the alignment marks for the EBDW lithography
Title Material optimization of the alignment marks for the EBDW lithography Author Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Co-authors Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Partel S. Hudek Peter 1953- SCOPUS RID ORCID Source document ASDAM 2010 : proceedings of the 8th International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems. P. 85-88. - Piscataway : IEEE, 2010 / Breza J. ; Donoval D. ; Vavrinský E. Language eng - English Country US - United States of America Document kind rozpis článkov z periodík (rzb) Category AEC - Scientific papers in foreign peer-reviewed proceedings, monographs Category of document (from 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Type of document príspevok Year 2010 Registered in SCOPUS DOI 10.1109/ASDAM.2010.5666341 
article
rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2010
Number of the records: 1