Number of the records: 1
The properties of oxygen plasma annealed La2O3 films for CMOS technology
Title The properties of oxygen plasma annealed La2O3 films for CMOS technology Author Písečný Pavol SAVINFO - Ústav informatiky SAV Co-authors Harmatha L. Jakabovič J. Ťapajna Milan 1977 ORCID Lupták Roman SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Čičo Karol Source document Proceedings of the 13th International Conference on Applied Physics of Condensed Matter : APCOM 2007. P. 243-246. - Žilina : ŽU, 2007 / Pudiš D. ; Martinek I. ; Jamnický I. ; International Conference on Applied Physics of Condensed Matter Language eng - English Country SK - Slovak Republic Document kind rozpis článkov z periodík (rzb) Category AED - Scientific papers in domestic peer-reviewed proceedings, monographs Category of document (from 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Type of document príspevok Year 2007 article
rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2007
Number of the records: 1