Influence of frequency of rf discharge on reactive ion etching of trench structures

Number of the records: 1

Title	Influence of frequency of rf discharge on reactive ion etching of trench structures
Author	Haščík Štefan 1956 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
Co-authors	Horniaková Anna SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
	Huran Jozef 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID

Source document	Acta Physica Slovaca. Vol. 41, č. 5/6 (1991), p. 374
Language	eng - English
Country	CS - Czechoslovakia
Document kind	rozpis článkov z periodík (rbx)
Keywords	plazma - leptanie
Category	ADDA - Scientific papers in domestic journals registered in Current Contents Connect with IF (impacted)
Category of document (from 2022)	V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
Type of document	článok
Year	1991

article

rok	CC	IF	IF Q (best)	JCR Av Jour IF Perc	SJR	SJR Q (best)	CiteScore
	A

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
1991

Number of the records: 1