Number of the records: 1
Optimization of mask material for deep reactive ion etching of GaAs structures
Title Optimization of mask material for deep reactive ion etching of GaAs structures Author Izsák Tibor SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ORCID Co-authors Kováčová Eva 1966 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Vanko Gabriel 1981 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ORCID Haščík Štefan 1956 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Zehetner J. Vojs M. Zaťko Bohumír 1973 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ORCID Source document Proceedings of ADEPT 2021 : 10th International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies, Tatranská Lomnica, High Tatras, Slovakia. P. 169-172. - Žilina : University of Zilina in EDIS-Publishing Centre of UZ, 2022 / Feiler M. ; Ziman M. ; Kováčová S. ; Kováč Jaroslav Jr. Language eng - English Country SK - Slovak Republic Document kind rozpis článkov z periodík (rzb) Category AFD - Published papers from domestic scientific conferences Category of document (from 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Type of document príspevok z podujatia Year 2022 
article
File name Access Size Downloaded Type License Optimization of mask material for deep reactive ion etching of GaAs structures.pdf available 511.6 KB 2 Publisher's version rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2022
Number of the records: 1