Number of the records: 1  

Smooth GaN recess wet photoelectrochemical etching

  1. TitleSmooth GaN recess wet photoelectrochemical etching
    Author Gregušová Dagmar 1958 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV    ORCID
    Co-authors Novák Jozef 1951 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV

    Hartdegen H.

    Šoltýs Ján 1977 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV    ORCID

    Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV    SCOPUS    RID    ORCID

    Greguš Ján

    Kordoš Peter SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV

    Source document . P. 199-202 ASDAM 2004 : conference proceeding of the Fifth International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems. Smolenice Castle, Slovakia October 17-21, 2004. - Piscataway : IEEE, 2004 / Osvald Jozef 1953 ; Haščík Štefan 1956
    Languageeng - English
    CountryUS - United States of America
    Document kindrozpis článkov z periodík (rzb)
    CategoryAEC - Scientific papers in foreign peer-reviewed proceedings, monographs
    Category of document (from 2022)V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
    Type of documentpríspevok
    Year2004
    article

    article

    rok vydaniarok metrikyIFIF Q (best)SJRSJR Q (best)
    2004
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.