Search results
Title Experimental and theoretical study on chemically semi-amplified resist AR-P 6200 Author Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Co-authors Vutova Katia Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Tanaka Takeshi Corporation VEIT 2017. 20th International Summer School on Vacuum, Electron and Ion Technologies : Black Sea Resort Sozopol, Bulgaria : September 25-29, 2017 Source document Journal of Physics: Conference Series. Vol. 992 (2018), art. no. 012057 Category ADMB - Scientific papers in foreign non-impacted journals registered in Web of Sciences or Scopus Category of document (from 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Type of document článok Year 2018 DOI 10.1088/1742-6596/992/1/012057 URL URL link File name Access Size Downloaded Type License Experimental and theoretical study on chemically semi-amplified resist AR-P 6200.pdf available 1.2 MB 0 Publisher's version 
article
Title Application of direct write variable shape e-beam lithography Author Jablonská Viera 1965- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Co-authors Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Čaplovič Igor 1948 SAVINFO - Ústav informatiky SAV Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Source document / Bardošová Mária 13th European Conference on Organised Films : ECOF 13. P. P35. - Cork : Tyndall National Institute UCC, 2013 ; European Conference on Organised Films ECOF 13 Category BFA - Abstracts of scientific papers from foreign (conferences) Year 2013 article
Title Investigation of the high sensitive negative resist for the photomasks fabrication by e-beam lithography Author Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Co-authors Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Source document Elektrotechnica & elektronica E+E. Vol. 47 (2012) no. 5-6, p. 5-9 Category ADEB - Scientific papers in other foreign journals not registered in Current Contents Connect without IF (non-impacted) Category of document (from 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Type of document článok Year 2012 article
Title Nanoštruktúry pre vývoj obvodov a senzorov : príprava nanoštruktúr metódou elektrónovej litografie Title translation Nanostructures for the development of circuits and sensors : preparation of nanostructure by e-beam lithography Author Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Co-authors Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Čaplovič Igor 1948 SAVINFO - Ústav informatiky SAV Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Jablonská Viera 1965- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Považan Ivo 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Source document / Hluchý Ladislav 1952- ; Kozák Štefan ; Budinská Ivana 1964- Informačné technológie na predvídanie a riešenie krízových situácií : seminár. 7 p.. - Bratislava : Ústav informatiky SAV, 2012 ; Seminár Informačné technológie na predvídanie a riešenie krízových situácií Category AFDB - Published papers from domestic scientific conferences Year 2012 article
Title Material optimization of the alignment marks for the EBDW lithography Author Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Co-authors Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Partel S. Hudek Peter 1953- Source document ASDAM 2010 : proceedings of the 8th International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems. P. 85-88. - Piscataway : IEEE, 2010 / Breza J. ; Donoval D. ; Vavrinský E. Category AEC - Scientific papers in foreign peer-reviewed proceedings, monographs Category of document (from 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Type of document príspevok Year 2010 DOI 10.1109/ASDAM.2010.5666341 article
Title Investigation of exposure parameters of e-beam resists for photomasks fabrication Author Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Co-authors Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Čaplovič Igor 1948 SAVINFO - Ústav informatiky SAV Source document / Sulzbach Thomas ; Rangelow I.W. PRONANO : proceedings of the Integrated Project on Massively Parallel Intelligent Cantilever Probe Platforms for Nanoscale Analysis and Synthesis. P. 99-110. - Münster : MV Wissenschaft, 2010 Category AEC - Scientific papers in foreign peer-reviewed proceedings, monographs Category of document (from 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Type of document príspevok Year 2010 article
Title Alignment marks for the EBDW lithography Author Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Co-authors Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Partel S. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Source document / Vajda J. ; Weiss M. APCOM 2010 : proceedings of the 16th International Conference on Applied Physics of Condensed matter. P. 252-255. - Bratislava : Slovenská technická univerzita v Bratislave, 2010 ; International Conference on Applied Physics of Condensed Matter APCOM 2010 Category AED - Scientific papers in domestic peer-reviewed proceedings, monographs Category of document (from 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Type of document príspevok Year 2010 article
Title E-beam lithography for photomask fabrication Author Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Co-authors Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Čaplovič Igor 1948 SAVINFO - Ústav informatiky SAV Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Source document / Scharff Peter Multicantilever parallel scanning systems : proceedings: PRONANO Workshop 2009. P. 71-78. - Ilmenau : Ilmenau University of Technology, 2009 ; Internationales Wissenschaftliches Kolloquium workshop PRONANO Category AEC - Scientific papers in foreign peer-reviewed proceedings, monographs Category of document (from 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Type of document príspevok Year 2009 article
Title New progressive method suitable for the exposure optimization of large and complex defect-free chips direct written by ZBA 21 e-beam tool Author Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Co-authors Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Partel Stefan Hudek Peter 1953- Source document / Haščík Štefan 1956 ; Osvald Jozef 1953 ASDAM 2008 : conference proceedings. P. 199-202. - Piscataway, NJ : Institute of Electrical and Electronics Engineers, 2008 ; International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems Category AEC - Scientific papers in foreign peer-reviewed proceedings, monographs Category of document (from 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Type of document príspevok Year 2008 DOI 10.1109/ASDAM.2008.4743316 article
Title Overenie postupov pri priamej elektrónovej litografii s využitím justážnych značiek na čipe Author Písečný Pavol SAVINFO - Ústav informatiky SAV Co-authors Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Issue data Bratislava : Ústav informatiky SAV , 2007 Category AGI - Reports on solved scientific and research tasks Year 2007 Project Technická správa ÚI SAV, TR-2007-25-01 - VEGA 2/6184/26 
book