Search results

Records found: 6  
Your query: Author Sysno/Doc.kind = "^sav_un_auth 0001929 xcla^"
  1. TitleNanostructuring of Mo/Si multilayers by means of reactive ion etching using a three-level mask
    Author Dreeskornfeld L.
    Co-authors Haindl G.
    Kleineberg U.
    Heinzmann U.
    Shi F.
    Volland B.
    Rangelow I.W.
    Majková Eva 1950 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV
    Luby Štefan 1941 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV
    Kostič Ivan SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Hsin-Yi Lee
    Source documentThin Solid Films. Vol. 458 ( 2004 ), p. 227-232
    CategoryADC
    Year2004
    DOI 10.1016/j.tsf.2003.09.070
    article

    article

  2. TitleEffect of substrate heating and ion beam polishing on the interface quality in Mo/Si multilayers- X-ray comparative study
    Author Anopchenko A.S. SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV
    Co-authors Jergel Matej 1954- SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV
    Majková Eva 1950 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV
    Luby Štefan 1941 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV
    Holý V.
    Aschentrup A.
    Kolina I.
    Cheon Lim Y.
    Haindl G.
    Kleineberg U.
    Heinzmann U.
    Source document Physica B : condensed matter. Vol. 305, no. 1 (2001), p. 14-20
    CategoryADC
    Year2001
    article

    article

  3. TitleReactive ion etching with end point detection of microstructured Mo/Si multilayers by optical emission spectroscopy
    Author Dreeskornfeld L.
    Co-authors Segler R.
    Haindl G.
    Wehmeyer O.
    Rahn S.
    Majková Eva 1950 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV
    Kleineberg U.
    Heinzmann U.
    Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Source document Microelectronic Engineering. Vol. 54, no. 3-4 (2000), p. 303-314
    CategoryADCA - Scientific papers in foreign journals registered in Current Contents Connect with IF (impacted)
    Category of document (from 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Type of documentčlánok
    Year2000
    DOI 10.1016/S0167-9317(99)00449-9
    article

    article

  4. TitleNanopatterning of Au absorber films on MO/Si EUV multilayer mirrors by STM lithography in self-assembled monolayer
    Author Sundermann M.
    Co-authors Hartwich J.
    Rott K.
    Meyners D.
    Majková Eva 1950 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV
    Kleineberg U.
    Grunze M.
    Heinzmann U.
    Source document Surface Science. Vol. 454, no. 1 (2000), p. 1104-1109
    CategoryADCA - Scientific papers in foreign journals registered in Current Contents Connect with IF (impacted)
    Category of document (from 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Type of documentčlánok
    Year2000
    article

    article

  5. TitleMetal oxide/silicon oxide multilayer with smooth interfaces produced by in situ controlled plasma-enhanced MOCVD
    Author Hamelmann F.
    Co-authors Haindl G.
    Schmalhorst J.
    Aschentrup A.
    Majková Eva 1950 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV
    Kleineberg U.
    Heinzmann U.
    Klipp A.
    Jutzi P.
    Anopchenko A.S. SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV
    Jergel Matej 1954- SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV
    Luby Štefan 1941 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV
    Source document Thin Solid Films. Vol. 358 (2000), p. 90-93
    CategoryADC
    Year2000
    DOI 10.1016/S0040-6090(99)00695-1
    article

    article

  6. TitleEffect of Ion-Beam Polishing on the Interface Quality in a Ti/C Multilayer Mirror for "Water Window"
    Author Jergel Matej 1954- SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV
    Co-authors Holý V.
    Majková Eva 1950 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV
    Luby Štefan 1941 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV
    Senderák Rudolf 1953 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV
    Stock H.J.
    Menke D.
    Kleineberg U.
    Heinzmann U.
    Source document Materials Science Forum. Vol. 321-324 (2000), p. 184-190
    CategoryADC
    Year2000
    article

    article



  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.