Search results
Title Atomic layer deposition and properties of mixed Ta2O5 ZrO2 films Author Kukli K. Co-authors Kemeli M. Vehkamäki M. Heikkilä M.J. Mizohata K. Kalam K. Ritala M. Leskelä M. Kundrata Ivan SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Source document AIP Advances. Vol. 7 (2017), no. 025001 Category ADCA - Scientific papers in foreign journals registered in Current Contents Connect with IF (impacted) Category of document (from 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Type of document článok Year 2017 DOI 10.1063/1.4975928 
article