Počet záznamov: 1
Minimum ion bean exposure dose determination for chemically amplified resist from printed dot matrices
Názov Minimum ion bean exposure dose determination for chemically amplified resist from printed dot matrices Autor Bruenger W.H. Spoluautori Torkler M. Weiss M. Loeschner Hans Leung K. Lee Y. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Rangelow I.W. Stangl Guenther Fallmann W. Zdroj.dok. Journal of Vacuum Science and Technology B. Vol. 17, no. 6 (1999), p. 3119-3121 Jazyk dok. eng - angličtina Krajina US - Spojené štáty Druh dok. rozpis článkov z periodík (rbx) Ohlasy DEVOLDER, T - CHAPPERT, C - BERNAS, H. Theoretical study of magnetic pattern replication by He+ ion irradiation through stencil masks. In JOURNAL OF MAGNETISM AND MAGNETIC MATERIALS. ISSN 0304-8853, 2002, vol. 249, no. 3, pp. 452-457. FASSBENDER, J - RAVELOSONA, D - SAMSON, Y. Tailoring magnetism by light-ion irradiation. In JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS. ISSN 0022-3727, 2004, vol. 37, no. 16, pp. R179-R196. Kategória ADC Rok vykazovania 1999 článok
rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 1999 1998 1.662
Počet záznamov: 1