Minimum ion bean exposure dose determination for chemically amplified resist from printed dot matrices

Počet záznamov: 1

Názov	Minimum ion bean exposure dose determination for chemically amplified resist from printed dot matrices
Autor	Bruenger W.H.
Spoluautori	Torkler M.
	Weiss M.
	Loeschner Hans
	Leung K.
	Lee Y.
	Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
	Rangelow I.W.
	Stangl Guenther
	Fallmann W.

Zdroj.dok.	Journal of Vacuum Science and Technology B. Vol. 17, no. 6 (1999), p. 3119-3121
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	US - Spojené štáty
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rbx)
Ohlasy	DEVOLDER, T - CHAPPERT, C - BERNAS, H. Theoretical study of magnetic pattern replication by He+ ion irradiation through stencil masks. In JOURNAL OF MAGNETISM AND MAGNETIC MATERIALS. ISSN 0304-8853, 2002, vol. 249, no. 3, pp. 452-457.
	FASSBENDER, J - RAVELOSONA, D - SAMSON, Y. Tailoring magnetism by light-ion irradiation. In JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS. ISSN 0022-3727, 2004, vol. 37, no. 16, pp. R179-R196.
Kategória	ADC
Rok vykazovania	1999

článok

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
1999	1998	1.662

Počet záznamov: 1