HTS thin films by innovative MOCVD processe

Počet záznamov: 1

Názov	HTS thin films by innovative MOCVD processe
Autor	Weiss F.
Spoluautori	Schmatz U.
	Pisch A.
	Felten F.
	Pignard S.
	Senateur J.P.
	Abrutis A.
	Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID
	Selbmann D.
	Klippe J.

Zdroj.dok.	Journal of Alloys and Compounds. Vol. 251 (1997), p. 264
Jazyk dok.	eng - angličtina
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rbx)
Ohlasy	HOU, X.H. - CHOY, K.L. CHEMICAL VAPOR DEPOSITION. ISSN 0948-1907, OCT 2006, vol. 12, no. 10, p. 583-596.
	TAVARES, P.B. - AMARAL, V.S. - ARAUJO, D. - OLIVEIRA, M.C. - VIEIRA, J.M. ADVANCED MATERIALS FORUM I. ISSN 1013-9826, 2002, vol. 230-2, p. 173-176.
	YAMAMOTO, S. - ODA, S. CHEMICAL VAPOR DEPOSITION. ISSN 0948-1907, JAN 2001, vol. 7, no. 1, p. 7-18.
	CHUPRAKOV, I.S. - MARTIN, J.D. - DAHMEN, K.H. JOURNAL DE PHYSIQUE IV. ISSN 1155-4339, SEP 1999, vol. 9, no. P8, Part 2, p. 901-908.
	YAMAMOTO, S. - SUGAI, S. - ODA, S. JOURNAL DE PHYSIQUE IV. ISSN 1155-4339, SEP 1999, vol. 9, no. P8, Part 2, p. 1013-1020.
	TAVARES, P.B. - AMARAL, V.S. - ARAUJO, J.P. - SOUSA, J.B. - LOURENCO, A.A.C.S. - VIEIRA, J.M. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. ISSN 0021-8979, APR 15 1999, vol. 85, no. 8, Part 2B, p. 5411-5413.
Kategória	ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných
Kategória (od 2022)	V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
Typ výstupu	článok
Rok vykazovania	1997

článok

rok	CC	IF	IF Q (best)	JCR Av Jour IF Perc	SJR	SJR Q (best)	CiteScore
	A

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
1997	1996	0.829

Počet záznamov: 1