Very thin insulating layer formed by low-energy Ar-beam bombardment

Počet záznamov: 1

Názov	Very thin insulating layer formed by low-energy Ar-beam bombardment in the surface region of undoped hydrogenated amorphous silicon
Autor	Durný R.
Spoluautori	Pinčík Emil 1956 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV ^ORCID
	Nádaždy Vojtech 1961 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV ^SCOPUS ^ORCID
	Jergel Matej 1954- SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
	Shimizu J.
	Kumeda M
	Shimizu T.

Zdroj.dok.	Applied Physics Letters. Vol. 77, no. 12 (2000), p. 1783-1785
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	US - Spojené štáty
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rbx)
Ohlasy	DEMAUREX, Benedicte - DE WOLF, Stefaan - DESCOEUDRES, Antoine - HOLMAN, Zachary Charles - BALLIF, Christophe. Damage at hydrogenated amorphous/crystalline silicon interfaces by indium tin oxide overlayer sputtering. In APPLIED PHYSICS LETTERS. ISSN 0003-6951, 2012, vol. 101, no. 17, 171604.
Kategória	ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných
Kategória (od 2022)	V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
Typ výstupu	článok
Rok vykazovania	2000

článok

rok	CC	IF	IF Q (best)	JCR Av Jour IF Perc	SJR	SJR Q (best)	CiteScore
	A

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2000	1999	4.184

Počet záznamov: 1