Aqueous base developable epoxy resist for high sensitivity electron beam lithography

Počet záznamov: 1

Názov	Aqueous base developable epoxy resist for high sensitivity electron beam lithography
Autor	Argitis P.
Spoluautori	Glezos N.
	Vasilopoulou M.
	Raptis I.
	Hatzakis M.
	Everett J.
	Meneghini G.
	Palumbo A.
	Ardito M.
	Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
	Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID

Zdroj.dok.	Microelectronic Engineering. Vol. 53, No. 1-4 (2000), p. 453-456
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	NL - Holandsko
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rbx)
Ohlasy	PEPIN, A - STUDER, V - DECANINI, D - CHEN, Y. Exploring the high sensitivity of SU-8 resist for high resolution electron beam patterning. In MICROELECTRONIC ENGINEERING. ISSN 0167-9317, 2004, vol. 73-4, no., pp. 233-237.
	HIRSCHER, S - KAESMAIER, R - DOMKE, WD - WOLTER, A - LOSCHNER, H - CEKAN, E - HORNER, C - ZEININGER, M - OCHSENHIRT, J. Resist process development for sub-100-nm ion projection lithography. In MICROELECTRONIC ENGINEERING. ISSN 0167-9317, 2001, vol. 57-8, no., pp. 517-530.
Kategória	ADC
Rok vykazovania	2000
Registrované v	WOS
Registrované v	SCOPUS
Registrované v	CCC
DOI	10.1016/S0167-9317(00)00354-3

článok

rok	CC	IF	IF Q (best)	JCR Av Jour IF Perc	SJR	SJR Q (best)	CiteScore
	A

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2000	1999	0.810

Počet záznamov: 1