Fabrication of open stencil masks with asymmetric void ratio for the ion projection lithography space charge experiment

Počet záznamov: 1

Názov	Fabrication of open stencil masks with asymmetric void ratio for the ion projection lithography space charge experiment
Autor	Volland B.
Spoluautori	Shi F.
	Heerlein H.
	Rangelow I.W.
	Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
	Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
	Cekan E.
	Vonach H.
	Loeschner Hans
	Horner C.
	Stengl G.
	Buschbeck H.
	Zeininger M.
	Bleeker A.
	Benschop J.

Zdroj.dok.	Journal of Vacuum Science and Technology B. Vol. 18, no. 6 (2000), p. 3202-3206
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	US - Spojené štáty
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rbx)
Ohlasy	SOHDA, Y - OHTA, H - SAITOU, N. A method for evaluating aberration in the crossover image in mask irradiation optics of electron beam. In REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS. ISSN 0034-6748, 2002, vol. 73, no. 2, pp. 270.
	KASSING, Rainer. Semiconductor. In FESTKORPER, 2005, vol., no., pp. 543.
	TSENG, AA. Recent developments in nanofabrication using ion projection lithography. In SMALL. ISSN 1613-6810, 2005, vol. 1, no. 6, pp. 594.
	TSENG, Ampere A. - DU, Zuliang - NOTARGIACOMO, Andrea - JOU, Shyankay. Nanoscale fabrication. In Microsystems and Nanotechnology, 2012-08-01, 9783642182938, pp. 513-577.
Kategória	ADC
Rok vykazovania	2000
Registrované v	WOS
Registrované v	SCOPUS
Registrované v	CCC
DOI	10.1116/1.1319688

článok

rok	CC	IF	IF Q (best)	JCR Av Jour IF Perc	SJR	SJR Q (best)	CiteScore
	A

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2000	1999	1.690

Počet záznamov: 1