Počet záznamov: 1
Fabrication of open stencil masks with asymmetric void ratio for the ion projection lithography space charge experiment
Názov Fabrication of open stencil masks with asymmetric void ratio for the ion projection lithography space charge experiment Autor Volland B. Spoluautori Shi F. Heerlein H. Rangelow I.W. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Cekan E. Vonach H. Loeschner Hans Horner C. Stengl G. Buschbeck H. Zeininger M. Bleeker A. Benschop J. Zdroj.dok. Journal of Vacuum Science and Technology B. Vol. 18, no. 6 (2000), p. 3202-3206 Jazyk dok. eng - angličtina Krajina US - Spojené štáty Druh dok. rozpis článkov z periodík (rbx) Ohlasy SOHDA, Y - OHTA, H - SAITOU, N. A method for evaluating aberration in the crossover image in mask irradiation optics of electron beam. In REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS. ISSN 0034-6748, 2002, vol. 73, no. 2, pp. 270. KASSING, Rainer. Semiconductor. In FESTKORPER, 2005, vol., no., pp. 543. TSENG, AA. Recent developments in nanofabrication using ion projection lithography. In SMALL. ISSN 1613-6810, 2005, vol. 1, no. 6, pp. 594. TSENG, Ampere A. - DU, Zuliang - NOTARGIACOMO, Andrea - JOU, Shyankay. Nanoscale fabrication. In Microsystems and Nanotechnology, 2012-08-01, 9783642182938, pp. 513-577. Kategória ADC Rok vykazovania 2000 Registrované v WOS Registrované v SCOPUS Registrované v CCC DOI 10.1116/1.1319688 článok
rok CC IF IF Q (best) JCR Av Jour IF Perc SJR SJR Q (best) CiteScore A rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2000 1999 1.690
Počet záznamov: 1