Growth of Ru and RuO2 films by metal-organic chemical vapour deposition

Počet záznamov: 1

Názov	Growth of Ru and RuO2 films by metal-organic chemical vapour deposition
Autor	Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID
Spoluautori	Machajdík Daniel SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
	Cambel Vladimír 1956 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID
	Fedor Ján 1976 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
	Pisch A.
	Lindner J.

Zdroj.dok.	Journal de Physique IV. Vol. 11, Pr3 (2001), p. 325-332
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	FR - Francúzsko
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rbx)
Ohlasy	STEEVES, M.M. - DENIZ, D. - LAD, R.J. In APPLIED PHYSICS LETTERS. APR 5 2010, vol. 96, no. 14.
	Aaltonen T. Chemical Vapor Deposition 10 (2004) 215
	GUO, L. - LI, X.Y. - CHEN, G.H. In ELECTROCHEMISTRY FOR THE ENVIRONMENT. 2010, p. 55-98.
	GREGORCZYK, K. - BANERJEE, P. - RUBLOFF, G.W. In MATERIALS LETTERS. APR 15 2012, vol. 73, p. 43-46.
Kategória	ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných
Kategória (od 2022)	V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
Typ výstupu	článok
Rok vykazovania	2001

článok

rok	CC	IF	IF Q (best)	JCR Av Jour IF Perc	SJR	SJR Q (best)	CiteScore
	A

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2001

Počet záznamov: 1