Use of a CCl2F2/H2 plasma plasma for the reactive ion etching of GaAs

Počet záznamov: 1

Názov	Use of a CCl2F2/H2 plasma plasma for the reactive ion etching of GaAs
Autor	Horniaková Anna SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
Spoluautori	Huran Jozef 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID
	Haščík Štefan 1956 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV

Zdroj.dok.	Vacuum. Vol. 44, (1993), p. 123
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	UK
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rbx)
Heslá	plasma * GaAs * CCl2F2/H2 * elektrotechnika slaboprúdová
Kategória	ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných
Kategória (od 2022)	V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
Typ výstupu	článok
Rok vykazovania	1993

článok

rok	CC	IF	IF Q (best)	JCR Av Jour IF Perc	SJR	SJR Q (best)	CiteScore
	A

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
1993

Počet záznamov: 1