Influence of frequency of rf discharge on reactive ion etching of trench structures

Počet záznamov: 1

Názov	Influence of frequency of rf discharge on reactive ion etching of trench structures
Autor	Haščík Štefan 1956 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
Spoluautori	Horniaková Anna SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
	Huran Jozef 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID

Zdroj.dok.	Acta Physica Slovaca. Vol. 41, č. 5/6 (1991), p. 374
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	CS - Československo
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rbx)
Heslá	plazma - leptanie
Kategória	ADDA - Vedecké práce v domácich karentovaných časopisoch impaktovaných
Kategória (od 2022)	V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
Typ výstupu	článok
Rok vykazovania	1991

článok

rok	CC	IF	IF Q (best)	JCR Av Jour IF Perc	SJR	SJR Q (best)	CiteScore
	A

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
1991

Počet záznamov: 1