Deep plasma etching of Si a CBrF3 plasma through a submicron single layer electron-beam litographic mask

Počet záznamov: 1

Názov	Deep plasma etching of Si a CBrF3 plasma through a submicron single layer electron-beam litographic mask
Autor	Huran Jozef 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID
Spoluautori	Horniaková Anna SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
	Haščík Štefan 1956 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV

Zdroj.dok.	Physica Status Solidi A. Vol. 132, (1992), p. K81
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	BR - Brazília
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rbx)
Heslá	Si * CBrF3
Kategória	ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných
Kategória (od 2022)	V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
Typ výstupu	článok
Rok vykazovania	1992

článok

rok	CC	IF	IF Q (best)	JCR Av Jour IF Perc	SJR	SJR Q (best)	CiteScore
	A

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
1992

Počet záznamov: 1