35uM thick high-resolution silicon stencil mask: Fabrication and operation in high energy ion projection and 10xdemagnification ion projection lithography

Počet záznamov: 1

Názov	35uM thick high-resolution silicon stencil mask: Fabrication and operation in high energy ion projection and 10xdemagnification ion projection lithography
Autor	Rangelow I.W.
Spoluautori	Sossna E.
	Volland B.
	Shi F.
	Meijer J.
	Stephan A.
	Weidenmuller U.
	Bukow H.H.
	Rolfs C.
	Ngo Vinh Van
	Leung K.N.
	Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
	Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID

Zdroj.dok.	The 45th International Conference on Electron, Ion and Photo Beam Technology and Nanofabrication : EIPBN 2001. Abstracts. P. 96-97. - Washington, DC, USA, 2001
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	US - Spojené štáty
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rzb)
Kategória	AFG - Abstrakty príspevkov zo zahraničných konferencií
Rok vykazovania	2001

článok

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2001

Počet záznamov: 1