Počet záznamov: 1  

Low temperature plasma deposition of N-doped a-SiC:H films and annealed by pulsed electron beam

  1. NázovLow temperature plasma deposition of N-doped a-SiC:H films and annealed by pulsed electron beam
    Autor 1955 Huran Jozef SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV    ORCID
    Spoluautori Hotový I.

    Kobzev A.P.

    Balalykin Nikolay I.

    Zdroj.dok. . P. 401 Proceedings of the 16th International Symposium on Plasma Chemistry. - Taormina, 2003
    Jazyk dok.eng - angličtina
    KrajinaIT - Taliansko
    Druh dok.rozpis článkov z periodík (rzb)
    OhlasyCHOUKOUROV, A. - GRINEVICH, A. - HANUS, J. - KOUSAL, J. - SLAVINSKA, D. - BIEDERMAN, H. - BOWERS, A. - HANLEY, L. In THIN SOLID FILMS. APR 28 2006, vol. 502, no. 1-2, p. 40-43.
    KategóriaAEE - Vedecké práce v zahraničných nerecenzovaných vedeckých zborníkoch (aj konferenčných), monografiách
    Kategória (od 2022)O2 - Odborný výstup publikačnej činnosti ako časť knižnej publikácie alebo zborníka
    Typ výstupupríspevok
    Rok vykazovania2003
    článok

    článok

    rok vydaniarok metrikyIFIF Q (best)SJRSJR Q (best)
    2003
Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.