Plasma immersion oxygen ion implantation to amorphous silicon

Počet záznamov: 1

Názov	Plasma immersion oxygen ion implantation to amorphous silicon
Autor	Záhoran M. 1956 Pinčík Emil SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV ^ORCID
	1954 Brunner Róbert SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV
	1954- Jergel Matej SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
	Falcony C.
	1955 Gmucová Katarína SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV ^SCOPUS ^ORCID
	Mráz S.
	Holúbek Tomáš SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV

Spoluautori	Juráni R.
Zdroj.dok.	Proceedings "Symposium on Application of Plasma Processes XIV-SAPP XIV", Liptovský Mikuláš 13.-18.1.2003. P. 109-112 / Šutta P. ; Mullerová J. ; 1954 Brunner Róbert
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	SK - Slovenská republika
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rzb)
Kategória	AFC - Publikované príspevky na zahraničných vedeckých konferenciách
Rok vykazovania	2003

článok

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
0

Počet záznamov: 1