Počet záznamov: 1
Leakage characteristics of advanced MOS capacitors with hafnium silicate dielectric and Ru electrode
Názov Leakage characteristics of advanced MOS capacitors with hafnium silicate dielectric and Ru electrode Autor Ťapajna Milan 1977 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ORCID Spoluautori Hušeková Kristína 1957 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ORCID Dobročka Edmund 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ORCID Roozeboom F. Zdroj.dok. ASDAM 2006. P. 21-24 : proceedings of the 6th International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems. - Piscataway : IEEE, 2006 / Breza J. ; Donoval D. ; Vavrinský E. Jazyk dok. eng - angličtina Krajina SK - Slovenská republika Druh dok. rozpis článkov z periodík (rzb) Kategória AEC - Vedecké práce v zahraničných recenzovaných vedeckých zborníkoch (aj konferenčných), monografiách Kategória (od 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Typ výstupu príspevok Rok vykazovania 2006 článok
rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2006
Počet záznamov: 1