Leakage characteristics of advanced MOS capacitors with hafnium silicate dielectric and Ru electrode

Počet záznamov: 1

Názov	Leakage characteristics of advanced MOS capacitors with hafnium silicate dielectric and Ru electrode
Autor	Ťapajna Milan 1977 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID
Spoluautori	Hušeková Kristína 1957 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
	Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID
	Dobročka Edmund 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID
	Roozeboom F.

Zdroj.dok.	ASDAM 2006. P. 21-24 : proceedings of the 6th International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems. - Piscataway : IEEE, 2006 / Breza J. ; Donoval D. ; Vavrinský E.
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	SK - Slovenská republika
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rzb)
Kategória	AEC - Vedecké práce v zahraničných recenzovaných vedeckých zborníkoch (aj konferenčných), monografiách
Kategória (od 2022)	V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
Typ výstupu	príspevok
Rok vykazovania	2006

článok

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2006

Počet záznamov: 1