Počet záznamov: 1  

Polyimide application for fabrication of open stencil mask (OSM) with high resolution for new generation lithography

  1. NázovPolyimide application for fabrication of open stencil mask (OSM) with high resolution for new generation lithography : Technical report II-TR-SAS-LM-2006-01
    Autor Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV    SCOPUS    RID
    Vyd.údajeBratislava : Institute of Informatics Slovak Academy of Sciences , 2006
    Jazyk dok.eng - angličtina
    KrajinaSK - Slovenská republika
    Druh dok.knihy
    KategóriaGAI - Správy (do roku 2014 aj výskumné štúdie)
    Rok vykazovania2006
    kniha

    kniha


Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.

Prijať všetkoNastavenieOdmietnuť všetko