Electrical properties and thermal stability of MOCVD grown Ru gate electrodes for advanced CMOS technology

Počet záznamov: 1

Názov	Electrical properties and thermal stability of MOCVD grown Ru gate electrodes for advanced CMOS technology
Autor	Ťapajna Milan 1977 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID
Spoluautori	Hušeková Kristína 1957 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
	Machajdík Daniel SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
	Kobzev A.P.
	Schram T.
	Lupták Roman SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
	Harmatha L.
	Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID

Zdroj.dok.	Microelectronic Engineering. Vol. 83, (2006), p. 2412. - Amsterdam : Elsevier Science Publishers
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	NL - Holandsko
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rbx)
Ohlasy	OZBEN, E.D. - LOPES, J.M.J. - ROECKERATH, M. - LENK, S. - HOLLANDER, B. - JIA, Y. - SCHLOM, D.G. - SCHUBERT, J. - MANTL, S. In APPLIED PHYSICS LETTERS. AUG 4 2008, vol. 93, no. 5.
	LUO, B. - GLADFELTER, W.L. In CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION: PRECURSORS, PROCESSES AND APPLICATIONS. 2009, p. 320-356.
	LAKSHMINARAYANA, G. - KITYK, I.V. - NAGAO, T. In JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE-MATERIALS IN ELECTRONICS. OCT 2016, vol. 27, no. 10, p. 10791-10797.
	WASIELEWSKI, R. - GRODZICKI, M. - SITO, J. - LAMENT, K. - MAZUR, P. - CISZEWSKI, A. In ACTA PHYSICA POLONICA A. AUG 2017, vol. 132, no. 2, p. 354-356.
Kategória	ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných
Kategória (od 2022)	V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
Typ výstupu	článok
Rok vykazovania	2006

článok

rok	CC	IF	IF Q (best)	JCR Av Jour IF Perc	SJR	SJR Q (best)	CiteScore
	A

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2006	2005	1.347	Q1	0.952	Q1

Počet záznamov: 1