Počet záznamov: 1
Formation and properties of TiSi2 films
Názov Formation and properties of TiSi2 films Autor Guldan Arnošt SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Spoluautori Schiller J. Steffen A. Balk P. Zdroj.dok. . vol. 100, 1983, p. 1 Thin Solid Films Jazyk dok. eng - angličtina Druh dok. rozpis článkov z periodík (rbx) Ohlasy Kwon, Y Kwon, O Kim, M Wee, D MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B 2006 VL 129 P 18 TAM, P.L. - CAO, Y. - NYBORG, L. In SURFACE SCIENCE. FEB 2012, vol. 606, no. 3-4, p. 329-336. WAMBACH, Matthias - ZIOLKOWSKI, Pawel - MUELLER, Eckhard - LUDWIG, Alfred. Structural and Functional Properties of the Thin Film System Ti-Ni-Si. In ACS COMBINATORIAL SCIENCE. ISSN 2156-8952, 2019, vol. 21, no. 5, pp. 362-369. LI, Jinghua - LI, Rui - DU, Haina - ZHONG, Yishan - CHEN, Yison - NAN, Kewang - WON, Sang Min - ZHANG, Jize - HUANG, Yonggang - ROGERS, John A. Ultrathin, Transferred Layers of Metal Silicide as Faradaic Electrical Interfaces and Biofluid Barriers for Flexible Bioelectronic Implants. In ACS NANO. ISSN 1936-0851, 2019, vol. 13, no. 1, pp. 660-670. Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných 
článok
rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 0
Počet záznamov: 1