Chemically amplified deep UV resist for micromachining using electron beam lithography and dry etching

Počet záznamov: 1

Názov	Chemically amplified deep UV resist for micromachining using electron beam lithography and dry etching
Autor	Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
Spoluautori	Rangelow I.W.
	Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
	Stangl Guenther
	Grabiec P.B.
	Belov Miroslav
	Shi F.

Spoluautori	Rangelow E.W.
Zdroj.dok.	Sensors and Materials. Vol. 10, no. 4 (1998) p. 219-227
Jazyk dok.	eng - angličtina
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rbx)
Ohlasy	SON, Sang Uk - CHOI, Yo Han - LEE, Seung S. An efficient cell count method using a lattice molded on indents of a culture dish. In SENSORS AND ACTUATORS A-PHYSICAL. ISSN 0924-4247, 2008, vol. 147, no. 2, pp. 665-671.
Kategória	ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných
Kategória (od 2022)	V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
Typ výstupu	článok
Rok vykazovania	1998
Registrované v	WOS
Registrované v	SCOPUS

článok

rok	CC	IF	IF Q (best)	JCR Av Jour IF Perc	SJR	SJR Q (best)	CiteScore
	A

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
1998

Počet záznamov: 1