Počet záznamov: 1
Alignment marks for the EBDW lithography
Názov Alignment marks for the EBDW lithography Autor Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Spoluautori Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Partel S. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Zdroj.dok. / Vajda J. ; Weiss M. APCOM 2010 : proceedings of the 16th International Conference on Applied Physics of Condensed matter. P. 252-255. - Bratislava : Slovenská technická univerzita v Bratislave, 2010 ; International Conference on Applied Physics of Condensed Matter APCOM 2010 Jazyk dok. eng - angličtina Krajina SK - Slovenská republika Druh dok. rozpis článkov z periodík (rzb) Kategória AED - Vedecké práce v domácich recenzovaných vedeckých zborníkoch (aj konferenčných), monografiách Kategória (od 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Typ výstupu príspevok Rok vykazovania 2010 
článok
rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2010
Počet záznamov: 1