Počet záznamov: 1  

Metal-related gate sinking due to interfacial oxygen layer in Ir/InAlN high electron mobility transistors

  1. NázovMetal-related gate sinking due to interfacial oxygen layer in Ir/InAlN high electron mobility transistors
    Autor Ostermaier C.
    Spoluautori Pozzovivo G.

    Basnar B.

    Schrenk W.

    Schmid M.

    Tóth L.

    Pécz B.

    Carlin J.-F.

    Gonschorek M.

    Grandjean N.

    Strasser G.

    Pogany D.

    Kuzmík Ján 1960 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV    ORCID

    Zdroj.dok. Applied Physics Letters. Vol. 96, (2010), 263515
    Jazyk dok.eng - angličtina
    KrajinaUS - Spojené štáty
    Druh dok.rozpis článkov z periodík (rbx)
    OhlasyWANG, R.H. - SAUNIER, P. - TANG, Y. - FANG, T.A. - GAO, X.A. - GUO, S.P. - SNIDER, G. - FAY, P. - JENA, D. - XING, H.L. In IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS. MAR 2011, vol. 32, no. 3, p. 309-311.
    LI, L.A. - KISHI, A. - SHIRAISHI, T. - JIANG, Y. - WANG, Q.P. - AO, J.P. - OHNO, Y. In JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. NOV 2013, vol. 52, no. 11, 2, SI.
    VALLO, M. - LALINSKY, T. - DOBROCKA, E. - VANKO, G. - VINCZE, A. - RYGER, I. In APPLIED SURFACE SCIENCE. FEB 15 2013, vol. 267, p. 159-163.
    WU, Y.F. - SASANGKA, W.A. - DEL ALAMO, J.A. In IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES. NOV 2017, vol. 64, no. 11, p. 4435-4441.
    EISNER, S.R. - ALPERT, H.S. - CHAPIN, C.A. - YALAMARTHY, A.S. - SATTERTHWAITE, P.F. - NASIRI, A. - PORT, S. - ANG, S. - SENESKY, D.G. Extended Exposure of Gallium Nitride Heterostructure Devices to a Simulated Venus Environment. In 2021 IEEE AEROSPACE CONFERENCE (AEROCONF 2021). ISSN 1095-323X, 2021.
    KategóriaADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2010
    Registrované vWOS
    Registrované vSCOPUS
    Registrované vCCC
    DOI 10.1063/1.3458700
    článok

    článok

    rokCCIFIF Q (best)JCR Av Jour IF PercSJRSJR Q (best)CiteScore
    A
    rok vydaniarok metrikyIFIF Q (best)SJRSJR Q (best)
    201020093.5542.826Q1
Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.