Investigation of exposure parameters of e-beam resists for photomasks fabrication

Počet záznamov: 1

Názov	Investigation of exposure parameters of e-beam resists for photomasks fabrication
Autor	Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
Spoluautori	Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
	Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Čaplovič Igor 1948 SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^RID

Zdroj.dok.	/ Sulzbach Thomas ; Rangelow I.W. PRONANO : proceedings of the Integrated Project on Massively Parallel Intelligent Cantilever Probe Platforms for Nanoscale Analysis and Synthesis. P. 99-110. - Münster : MV Wissenschaft, 2010
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	DE - Nemecko
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rzb)
Kategória	AEC - Vedecké práce v zahraničných recenzovaných vedeckých zborníkoch (aj konferenčných), monografiách
Kategória (od 2022)	V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
Typ výstupu	príspevok
Rok vykazovania	2010

článok

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2010

Počet záznamov: 1