Počet záznamov: 1
Material optimization of the alignment marks for the EBDW lithography
Názov Material optimization of the alignment marks for the EBDW lithography Autor Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Spoluautori Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Partel S. Hudek Peter 1953- SCOPUS RID ORCID Zdroj.dok. ASDAM 2010 : proceedings of the 8th International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems. P. 85-88. - Piscataway : IEEE, 2010 / Breza J. ; Donoval D. ; Vavrinský E. Jazyk dok. eng - angličtina Krajina US - Spojené štáty Druh dok. rozpis článkov z periodík (rzb) Kategória AEC - Vedecké práce v zahraničných recenzovaných vedeckých zborníkoch (aj konferenčných), monografiách Kategória (od 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Typ výstupu príspevok Rok vykazovania 2010 Registrované v SCOPUS DOI 10.1109/ASDAM.2010.5666341 
článok
rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2010
Počet záznamov: 1