Nanocrystalline silicon carbide thin films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition

Počet záznamov: 1

Názov	Nanocrystalline silicon carbide thin films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition
Autor	Valovič Albín SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
Spoluautori	Huran Jozef 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID
	Kobzev A.P.
	Balalykin Nikolay I.
	Kučera Michal 1956 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID
	Haščík Štefan 1956 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV

Zdroj.dok.	Acta Technica. Vol. 56, (2011), p. T291-T298
Jazyk dok.	slo - slovenčina
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rbx)
Kategória	ADEB - Vedecké práce v ostatných zahraničných časopisoch neimpaktovaných
Kategória (od 2022)	V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
Typ výstupu	článok
Rok vykazovania	2011

článok

rok	CC	IF	IF Q (best)	JCR Av Jour IF Perc	SJR	SJR Q (best)	CiteScore
	N

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2011	2010			0.184	Q3

Počet záznamov: 1