Počet záznamov: 1  

Properties study of silicon carbide thin films prepared by electron cyclotron resonance plasma technology

  1. NázovProperties study of silicon carbide thin films prepared by electron cyclotron resonance plasma technology
    Autor Valovič Albín SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
    Spoluautori Huran Jozef 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV    ORCID

    Kučera Michal 1956 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV    ORCID

    Kobzev A.P.

    Gaži Štefan 1948 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV

    Zdroj.dok. European Physical Journal - Applied Physics. Vol. 56, (2011), 24013
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Druh dok.rozpis článkov z periodík (rbx)
    OhlasyOMAR, M.F. - LEY, H.H. - ZAINAL, J. - ISMAIL, A.K. - IBRAHIM, R.K.R. - SAKRANI, S. In 2013 IEEE 4TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON PHOTONICS (ICP). 2013, p. 153-155.
    KategóriaADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2011
    Registrované vWOS
    Registrované vSCOPUS
    Registrované vCCC
    DOI 10.1051/epjap/2011110153
    článok

    článok

    rokCCIFIF Q (best)JCR Av Jour IF PercSJRSJR Q (best)CiteScore
    A
    rok vydaniarok metrikyIFIF Q (best)SJRSJR Q (best)
    201120100.902Q30.498Q2
Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.