Investigation of the high sensitive negative resist for the photomasks fabrication by e-beam lithography

Počet záznamov: 1

Názov	Investigation of the high sensitive negative resist for the photomasks fabrication by e-beam lithography
Autor	Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
Spoluautori	Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
	Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID

Zdroj.dok.	Elektrotechnica & elektronica E+E. Vol. 47 (2012) no. 5-6, p. 5-9
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	BG - Bulharsko
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rbx)
Kategória	ADEB - Vedecké práce v ostatných zahraničných časopisoch neimpaktovaných
Kategória (od 2022)	V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
Typ výstupu	článok
Rok vykazovania	2012

článok

rok	CC	IF	IF Q (best)	JCR Av Jour IF Perc	SJR	SJR Q (best)	CiteScore
	N

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2012

Počet záznamov: 1