Počet záznamov: 1
Stuctural and physical characteristics of PECVD nanocrystalline silicon carbide thin films
Názov Stuctural and physical characteristics of PECVD nanocrystalline silicon carbide thin films Autor Huran Jozef 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ORCID Spoluautori Valovič Albín SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Kobzev A.P. Balalykin Nikolay I. Kučera Michal 1956 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ORCID Haščík Štefan 1956 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Malinovský Ľudovít 1956 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV Kováčová Eva 1966 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Zdroj.dok. Physics Procedia. Vol. 32, (2012), p. 303-307 Jazyk dok. eng - angličtina Druh dok. rozpis článkov z periodík (rbx) Ohlasy NGUYEN, Bryan - TABARKHOON, Farnaz - WELCHERT, Nicholas A. - HU, Sheng - GUPTA, Malancha - TSOTSIS, Theodore. Fabrication of SiC-Type Films Using Low-Energy Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) and Subsequent Pyrolysis. In Industrial and Engineering Chemistry Research, 2023-06-21, 62, 24, pp. 9474-9491. ISSN 08885885. Dostupné na: https://doi.org/10.1021/acs.iecr.2c04656. WAN, Ming - WANG, Weilu - PENG, Xincun - ZOU, Jijun. Latest progress in synthesis of nanocrystalline SiC coatings. In Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao/Journal of Vacuum Science and Technology, 2015-04-01, 35, 4, pp. 424-433. ISSN 16727126. Dostupné na: https://doi.org/10.13922/j.cnki.cjovst.2015.04.08. Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2012 Registrované v WOS DOI 10.1016/j.phpro.2012.03.560 
článok
rok CC IF IF Q (best) JCR Av Jour IF Perc SJR SJR Q (best) CiteScore N rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2012 2011 0.227
Počet záznamov: 1