Počet záznamov: 1  

Oblique angle sputtering of ZnO: Ga thin films

  1. NázovOblique angle sputtering of ZnO: Ga thin films
    Autor Tvarožek V.
    Spoluautori Novotný I.

    Šutta P.

    Netrvalová M.

    Vávra Ivo 1949 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV

    Bruncko J.

    Gašpierik P.

    Flickyngerová S.

    Zdroj.dok. Physics Procedia. Vol. 32, (2012), p. 456-463
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Druh dok.rozpis článkov z periodík (rbx)
    OhlasyYANG, Z.P. - XIE, Z.H. - LIN, C.C. - LEE, Y.J. In OPTICAL MATERIALS EXPRESS. FEB 1 2015, vol. 5, no. 2, p. 399-407.
    FERNANDEZ, S. - GRANDAL, J. - TRAMPERT, A. - NARANJO, F.B. In MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING. JUN 2017, vol. 63, p. 115-121.
    ANH TUAN THANH PHAM - OANH KIEU TRUONG LE - DUNG VAN HOANG - TRUONG HUU NGUYEN - TRANG HUYEN CAO PHAM - PHUONG THANH NGOC VO - THANG BACH PHAN - VINH CAO TRAN. Controlling thickness to tune performance of high-mobility transparent conducting films deposited from Ga-doped ZnO ceramic target. In JOURNAL OF THE EUROPEAN CERAMIC SOCIETY. ISSN 0955-2219, 2021, vol. 41, no. 6, pp. 3493-3500. Dostupné na: https://doi.org/10.1016/j.jeurceramsoc.2021.01.029.
    KategóriaADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2012
    Registrované vWOS
    Registrované vSCOPUS
    DOI 10.1109/ASDAM.2012.6418515
    článok

    článok

    rokCCIFIF Q (best)JCR Av Jour IF PercSJRSJR Q (best)CiteScore
    N
    rok vydaniarok metrikyIFIF Q (best)SJRSJR Q (best)
    201220110.227
Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.