Počet záznamov: 1
Photosensitive AZ 5214E resist used for e-beam lithography applications
Názov Photosensitive AZ 5214E resist used for e-beam lithography applications Autor Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Spoluautori Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Škriniarová Jaroslava Haščík Štefan 1956 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Zdroj.dok. / Vajda J. ; Jamnický I. Proceedings of the 19th International Conference on Applied Physics of Condensed Matter : APCOM 2013. P. 50-53. - Bratislava : Nakladateľstvo STU Bratislava, 2013 ; International Conference on Applied Physics of Condensed Matter APCOM 2013 Jazyk dok. eng - angličtina Krajina SK - Slovenská republika Druh dok. rozpis článkov z periodík (rzb) Kategória AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách Rok vykazovania 2013 
článok
rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2013
Počet záznamov: 1