Suitability of N2 plasma for the RIE etching of thin Ag layers

Počet záznamov: 1

Názov	Suitability of N2 plasma for the RIE etching of thin Ag layers
Autor	Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
Spoluautori	Haščík Štefan 1956 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
	Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
	Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID

Zdroj.dok.	/ Vajda J. ; Jamnický I. Proceedings of the 19th International Conference on Applied Physics of Condensed Matter : APCOM 2013. P. 54-57. - Bratislava : Nakladateľstvo STU Bratislava, 2013 ; International Conference on Applied Physics of Condensed Matter APCOM 2013
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	SK - Slovenská republika
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rzb)
Kategória	AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
Rok vykazovania	2013

článok

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2013

Počet záznamov: 1