Atomic layer deposition of thin oxide films for resistive switching

Počet záznamov: 1

Názov	Atomic layer deposition of thin oxide films for resistive switching
Autor	Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID
Spoluautori	Jančovič Peter 1990 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
	Hudec Boris SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID
	Dérer Ján 1948 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
	Paskaleva A.
	Bertaud T.
	Schroeder T.

Zdroj.dok.	ECS Transactions. Vol. 58, (2013), p. 163-170
Jazyk dok.	eng - angličtina
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rbx)
Kategória	ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
Kategória (od 2022)	V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
Typ výstupu	článok
Rok vykazovania	2013
Registrované v	WOS
Registrované v	SCOPUS
DOI	10.1149/05810.0163ecst

článok

rok	CC	IF	IF Q (best)	JCR Av Jour IF Perc	SJR	SJR Q (best)	CiteScore
	N

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2013	2012			0.240

Počet záznamov: 1