Počet záznamov: 1
RIE plasma etching of GaAs in SiCl4 and CCl4 gases with different resists as etch masks
Názov RIE plasma etching of GaAs in SiCl4 and CCl4 gases with different resists as etch masks Autor Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Spoluautori Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Haščík Štefan 1956 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Zdroj.dok. / Vajda J. ; Jamnický I. Proceedings of the 20th International Conference on Applied Physics of Condensed Matter : APCOM 2014. P. 312-315. - Bratislava : FEI STU, 2014 ; International Conference on Applied Physics of Condensed Matter APCOM 2014 Jazyk dok. slo - slovenčina Druh dok. rozpis článkov z periodík (rzb) Kategória AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách Rok vykazovania 2014 
článok
rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2014
Počet záznamov: 1