Počet záznamov: 1
Plasma enhanced chemical vapor deposition of low-k a-SiC:H thin films:FTIR study of chemical bonding
Názov Plasma enhanced chemical vapor deposition of low-k a-SiC:H thin films:FTIR study of chemical bonding Autor Huran Jozef 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ORCID Spoluautori Kleinová Angela 1960- SAVPOLYM - Ústav polymérov SAV ORCID Sasinková Vlasta 1954- SAVCHEM - Chemický ústav SAV Kobzev A.P. Boháček Pavol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Sekáčová Mária 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Arbet Juraj 1959 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Zdroj.dok. / Pudiš D. ; Šušlík Ľ. ; Kováč J., jr. ; Flickyngerová S. ; Lettrichová I. Proceedings of ADEPT : 2nd International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies. P. 168-171. - Žilina : University of Žilina, 2014 ; International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies ADEPT 2014 Jazyk dok. slo - slovenčina Druh dok. rozpis článkov z periodík (rzb) Kategória AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách Rok vykazovania 2014 
článok
rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2014
Počet záznamov: 1