Počet záznamov: 1
Technological tuning of the HSQ XR 1541 resist in EBDW lithography
Názov Technological tuning of the HSQ XR 1541 resist in EBDW lithography Autor Škriniarová Jaroslava Spoluautori Hronec P. Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Schaaf P. Spoluautori Wang D. Zdroj.dok. Pudiš D. / Lettrichová I. ; Kováč J., jr. Proceedings of ADEPT : 3rd International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies. P. 218-222. - Žilina : University of Žilina, 2015 ; International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies ADEPT 2015 Jazyk dok. eng - angličtina Krajina SK - Slovenská republika Druh dok. rozpis článkov z periodík (rzb) Kategória AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách Rok vykazovania 2015 článok
rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2015
Počet záznamov: 1