Technological tuning of the HSQ XR 1541 resist in EBDW lithography

Počet záznamov: 1

Názov	Technological tuning of the HSQ XR 1541 resist in EBDW lithography
Autor	Škriniarová Jaroslava
Spoluautori	Hronec P.
	Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
	Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Schaaf P.

Spoluautori	Wang D.
Zdroj.dok.	Pudiš D. / Lettrichová I. ; Kováč J., jr. Proceedings of ADEPT : 3rd International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies. P. 218-222. - Žilina : University of Žilina, 2015 ; International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies ADEPT 2015
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	SK - Slovenská republika
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rzb)
Kategória	AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
Rok vykazovania	2015

článok

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2015

Počet záznamov: 1