Electron beam lithography method for high-resolution nanofabrication

Počet záznamov: 1

Názov	Electron beam lithography method for high-resolution nanofabrication
Autor	Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
Spoluautori	Vutova Katia
	Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Koleva Elena

Zdroj.dok.	International scientific conference High technologies. business. Society : Proceedings, Volume I "High technologies". Vol. I, no. 1 (2017), p. 9-12. - Sofia, Bulgaria : Scientific Technical Union of Mechanical Engineering Industry 4.0
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	BG - Bulharsko
URL	URL link
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rzb)
Ohlasy	ZHENG YU - GAO PIAO-PIAO - TANG XIN - LIU JIAN-ZHE - DUAN JI-AN. Effects of electron beam lithography process parameters on structure of silicon optical waveguide based on SOI. In JOURNAL OF CENTRAL SOUTH UNIVERSITY, 2022, vol. 29, no. 10, pp. 3335-3345. ISSN 2095-2899. Dostupné na: https://doi.org/10.1007/s11771-022-5152-0.
Kategória	AFC - Publikované príspevky na zahraničných vedeckých konferenciách
Rok vykazovania	2017

článok

	Názov súboru	Prístup	Veľkosť	Stiahnuté	Typ	Licence
	Electron beam lithography method for high-resolution nanofabrication.pdf	Neprístupný/archív	415.1 KB	1	Vydavateľská verzia

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2017

Počet záznamov: 1